电阻层析成像技术,Electrical Resistance Tomography
1)Electrical Resistance Tomography电阻层析成像技术
1.Electrical Resistance Tomography technology is an advanced section-detection technology that is developed recently, and it has the following characteristics: non-invasion, non-radiation, visualization.电阻层析成像技术是近年来发展起来的一种截面分布式的检测技术,具有非侵入的、无辐射的、可视化的特点。
2.Profiles of phase holdup in a φ90 mm three-phase external loop airlift reactor using electrical resistance tomography and pressure transducers were investigated, water was used as the continuous and conductive phase, while polyurethane and air were non-conductive solid and gas phases, respectively.结合电阻层析成像技术和差压法,以平均粒径为3mm的聚氨酯为固相,空气为气相,水为液相,对φ90mm的气升式三相外循环环流反应器中局部相含率及其径向分布进行了研究。
英文短句/例句
1.Measurement of gas/liquid two-phase flow based on electrical resistance tomography基于电阻层析成像技术的气/液两相流测量
2.Study on the Soft-field Characteristic and Image Reconstruction Algorithm of Electrical Resistance Tomography;电阻层析成像技术软场特性及图像重建算法研究
3.Investigation of Electrical Resistance Tomography Based on the Single Drive Electrode Method;基于单电极激励模式的电阻层析成像技术的研究
4.Electrical Resistance Tomographic Measurement Based on a Line Electrode Model and Adaptive Meshing Technology基于线电极和自适应网格的电阻层析成像技术研究
5.Distribution Characterizations of Phase Holdups in Gas-Liquid-(Solid) Bubble Column Using Electrical Resistance Tomography采用电阻层析成像技术测量气液（固）鼓泡床相含率的分布特性
6.Experimental Study on Phase Holdup in Three-phase External Loop Airlift Reactors Using Electrical Resistance Tomography采用电阻层析成像技术测量三相外环流反应器中相含率的实验研究
7.Research on Techniques of Dual-mode Electrical Resistance & Capacitance Tomography;电阻抗（ECT/ERT）双模态层析成像技术研究
8.The Preliminary Research on the Technology of Magnetic Induction Impedance Tomography;磁感应电阻抗断层成像技术初步研究
9.Electrical Resistance Tomographic Measurment Based on Injecting Dual Current Sources基于双电流源激励的电阻层析成像测量技术研究
10.Application of Electrical Resistance Tomography System and Cross-correlation Technique in Two-phase Flows Measurement;电阻层析成像系统和相关技术在两相流测量中的应用
11.Research on Communication Method of Electrical Resistance Tomography System Based on USB Technique;基于USB技术的电阻层析成像系统通讯方法的研究
12.The Applied Research of Two-dimensional Resistivity Tomography Technology in the Earth Dam Leakage二维电阻率层析成像技术在土石坝渗漏诊断中的应用
13.Research on Data Acquisition Technique for Induced Current Electrical Impedance Tomography感应电流电阻抗断层成像的数据采集技术
14.Study on Image Reconstruction Algorithm of Electrical Capacitance Tomography;电容层析成像技术图像重建算法研究
15.A Theoretic and Experimental Study on Electrical Impedance Tomography;电阻抗断层成像技术理论和实践的研究
16.The Image Reconstruction Algorithm Research on Electrical Capacitance Tomography;电容层析成像技术的图像重建算法研究
17.Research on Three-dimensional Image Visualization for Electrical Capacitance Tomography;电容层析成像三维图像可视化技术研究
18.Simulation and Study on 32-electrode Electrical Resistance Tomography System32电极电阻层析成像系统仿真研究
相关短句/例句
Computerized ionospheric tomography电离层层析成像技术
1.Computerized ionospheric tomography(CIT) is suitable for monitoring large-scale spatial structures and disturbances of ionospheric electron density.电离层层析成像技术非常适用于检测电离层电子密度的大尺度空间分布及其扰动。
3)electrical impedance tomography电阻抗断层成像技术
1.It is significative attempt in medical diagnosis that Electrical Impedance Tomography is used to hematoma monitoring.电阻抗断层成像技术用于脑血肿实时监测对临床医学有重要意义。
4)Electromagnetic tomography technique电磁波层析成像技术
5)CT TomographyCT电磁波层析成像技术
6)resistivity tomography电阻率层析成像
bined Prospecting for Lead-zinc Deposit by Resistivity Tomography and Electrical Sounding of Induced Polarization;电阻率层析成像和激电测深对栾川铅锌矿的联合勘探
2.Application ofresistivity tomography nondestructive detection technique to earth-rock dam for Longfengshan Reservoir;龙凤山水库土石坝电阻率层析成像无损检测技术
3.Application ofresistivity tomography technique to detecting hiddendanger in embankment;电阻率层析成像在堤坝隐患探测中的应用
延伸阅读
解决暗场成像技术延伸晶圆检测大多数暗场检测系统的核心是声光偏转器（AOD）。当高频信号作用于它时，AOD展现某些特性，它可折射出激光束。如果此激光束折射地很快，结果就相当于在晶圆上画一激光扫描线。正是这条线可确定每次通过晶圆的检测高度，这和产量直接相关。传统的暗场结构很简单：主要是基于照明斑点和光电倍增管（PMT）传感器。如今，大多数传统的暗场检测系统可达到100M像素/秒。理论上，可达到300M像素/秒。但是，在暗场中，晶圆结构的散射可从一个像素中几个光子到下个像素中变成数百万个光子，当取样时间减少到>3nsec时，使支持高动态范围（>12比特）和单输出数字化系统的电子电路的研发变得越来越难。扩展激光光斑扫描的另一障碍是为提高检测灵敏度而减少光斑尺寸时，功率密度就增加了，也就增加了先进晶圆材料受损伤的危险性。另外，光斑扫描结构不能依比例缩小分辨率并同时保持光的傅立叶滤光。这点很重要，因为对先进SRAM和DRAM阵列，傅立叶滤光可使激光器光斑扫描系统的灵敏度增加10倍。KLA-Tencor公司研发了一种解决方案，避开了这些基本限制，即把难题从前端照明处转移到集光端。这简化了采用光学透镜沿晶圆跟踪线的要求。其新的Puma9000平台采用了专利结构，可在晶圆上形成一条长线并进行检测，同时，经过多个集光通道可产生双暗场平面。KLA-Tencor设计了一种新的线性传感器和结构，称之为“Streak”技术，它可使传统的暗场极限分别得到解决，能提供>500M像素/秒，以及≤65nm的线监测能力。对精密的运算规则有足够的计算能力，可从多个通道分析数据。同时，不会延长扫描时间和牺牲产量。以前，通常采用的是激光光斑和PMT，但PMT是一种光探测器，它并不意味着更高的分辨率。分辨率由照明光斑的尺寸决定。平台能控制照明光斑的尺寸，而且因它有一个与像素有关的传感器，在集光通道中也存在分辨率。成像技术结合照明线允许系统傅立叶滤波任何先进的阵列结构，得到10倍灵敏度的增加，同时增加了照明线上和成像集热器的分辨率。具有双暗场结构的照明和集光器的结合可在获得传统的暗场晶圆产量的前提下得到最好的缺陷灵敏度。典型的应用是在氮化硅剥离后在像STICMP这样的薄层上的空洞探测。空洞的大小可在200nm到20nm范围内。Puma对>50nm的空洞的产量已达>10wph，这对传统的暗场系统是做不到的。另一个例子是对在90nm到70nm设计规则下，某些遗漏的接触孔甚至部分被刻蚀的接触孔的探测，由于和接触层有关的噪声，至今为止，这方面的探测也成了检测系统面临的主要挑战。由于平台不再受AOD要求的限制，它可望将延伸好几代。作者：Alexander E. Braun，Semiconductor International高级编辑
